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1、【题目】静止龋出现的条件是
选项：
A.机体抵抗力增加
B.龋损处致龋的环境消失
C.口腔内致龋菌数量减少
D.口腔唾液流量增加
E.摄糖总量减少
答案：
B
解析：
暂无解析
1、【题目】预备嵌件缘斜面的目的中不包括
选项：
A.增加嵌体的边缘密合性
B.增强嵌体的耐磨擦性
C.减少微漏
D.预防釉质折断
E.增加嵌体与边缘的封闭作用
答案：
B
解析：
暂无解析
1、【题目】静止龋出现的条件是
选项：
A.机体抵抗力增加
B.龋损处致龋的环境消失
C.口腔内致龋菌数量减少
D.口腔唾液流量增加
E.摄糖总量减少
答案：
B
解析：
暂无解析
1、【题目】防止细菌污染培养基宜采用
选项：
A.消毒
B.灭菌
C.防腐
D.无菌操作
E..灭菌与无菌操作
答案：
E
解析：
暂无解析
1、【题目】总义齿修复中，作用于唾液与基托之间的力，应称之为
选项：
A.粘固力
B.吸引力
C.附着力
D.粘附力
E.粘着力
答案：
C
解析：
暂无解析
1、【题目】可摘局部义齿上颌后堤区后缘应在
选项：
A.前颤动线以前
B.腭小凹之前
C.软硬腭交界处稍后的软腭上
D.前后颤动线以前
E.后颤动线以前
答案：
C
解析：
暂无解析
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